GNS 3000 擴散爐專為 300mm 晶圓代工廠的精密熱處理而設計，確保溫度均勻控制、高產能與優異的製程重複性，適用於擴散、氧化及退火等應用。具備可客製化功能，提升生產效率的同時維持高品質標準，滿足半導體製造嚴苛的需求。