TELINDY-Plus Furnace 300mm
TELINDY Plus 300mm 批次式爐管系統
TELINDY Plus 是一套 300mm 批次式熱製程系統，可用於半導體氧化、退火、CVD 與 ALD 製程。高葉提供 TELINDY Plus 設備翻新、零組件、安裝及持續的現場服務支援。
TELINDY Plus 平台概覽
TELINDY Plus 是 Tokyo Electron 為前段半導體製造所開發的 300mm 批次式熱製程平台，適用於需要穩定批次控制的熱處理與薄膜形成應用。
此平台可應用於氧化、退火、化學氣相沉積及原子層沉積製程。實際製程能力取決於設備配置與已安裝的製程模組。
高葉將 TELINDY Plus 納入半導體設備支援範圍，提供設備翻新、安裝、故障排除、預防性維護及替換零組件支援。
製程應用
TELINDY Plus 可應用於半導體晶圓製造中的多項熱製程與沉積製程。實際可執行的製程取決於個別設備配置。
氧化
利用熱氧化製程在半導體晶圓表面形成受控的氧化層。
退火
透過受控熱處理進行材料活化、穩定化及其他晶圓製程需求。
CVD
以批次式化學氣相沉積製程形成可控薄膜。
ALD
用於需要高度受控且具重複性的薄膜成長之原子層沉積製程。
測試與驗證
設備及完成維修的組件可於交付或安裝前進行檢查與測試。視專案需求，我們可在潔淨室環境中進行測試，於模擬晶圓廠操作條件的受控環境下驗證設備效能。
最終驗證方式會依據實際工作範圍及個別設備狀況進行。
交付前受控驗證
測試項目會依據設備狀況、已完成的維修工作及所需驗收標準制定。
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