化學氣相沉積（CVD）加熱器是前段半導體設備中的關鍵元件，為薄膜沉積等熱處理步驟提供精確的溫度控制。

我們專門設計、翻新、客製化、安裝、測試及調試用於半導體製造的低壓化學氣相沉積（CVD）加熱器。
我們的設計改良重點在於優化加熱元件的配置，以達成晶片表面均勻的熱分佈。
此舉能有效降低熱點與溫度梯度，提升製程控制精度，改善薄膜品質並提高良率。