TELINDY PLUS™ 是業界領先的等溫式大批量製程平台，專為氧化、退火與低壓化學氣相沉積（LPCVD）等關鍵半導體製程所設計。TELINDY PLUS™ 採用頂尖的熱壁反應爐技術，提供卓越的薄膜品質，同時維持極高的製程控制與批次穩定性。

此外，TELINDY PLUS™ 具備優化的架構設計，能最大化每平方英尺的晶圓處理量。自問世以來，TELINDY PLUS™ 持續進化，提升晶圓批次容量，並擴展製程應用至低溫原子層沉積（ALD）與等離子輔助沉積（TELINDY PLUS™ IRad™），以因應元件尺寸日益縮小的趨勢，全面支援先進晶片製造需求。