快速熱處理系統的進展 快速熱處理系統的技術進展 12FEB 2025高葉在半導體製造快速熱處理系統領域的進展高葉自豪地展示我們在半導體解決方案服務方面的成長:我們在快速熱處理系統(FTPS)加熱器領域的先進能力。這些加熱器是快速升溫批次爐處理的關鍵推動者,廣泛應用於高效的前段半導體奈米製造。在半導體製造過程中,受控熱處理至關重要。爐體用於處理半導體晶圓,透過精準控制加熱,完成薄膜沉積與成長、誘導化學反應、應力及形貌控制,以及修復因高能處理所產生的缺陷。FTPS加熱器升溫速率可達每分鐘100°C,降溫速率則高達每分鐘60°C,提供更精準的表面反應控制;並允許在同一爐體中連續執行多個熱處理步驟。此快速熱響應縮短了製程週期時間,提高產能,並改善晶圓均勻性及電性能,且同時提供經濟高效的先進半導體解決方案。我們已通過多家主要晶圓廠的認證,歡迎您諮詢我們的解決方案。 有興趣了解更多嗎?歡迎即刻聯繫我們,獲取專業指導。 立即諮詢
高葉自豪地展示我們在半導體解決方案服務方面的成長:我們在快速熱處理系統(FTPS)加熱器領域的先進能力。這些加熱器是快速升溫批次爐處理的關鍵推動者,廣泛應用於高效的前段半導體奈米製造。
在半導體製造過程中,受控熱處理至關重要。爐體用於處理半導體晶圓,透過精準控制加熱,完成薄膜沉積與成長、誘導化學反應、應力及形貌控制,以及修復因高能處理所產生的缺陷。
FTPS加熱器升溫速率可達每分鐘100°C,降溫速率則高達每分鐘60°C,提供更精準的表面反應控制;並允許在同一爐體中連續執行多個熱處理步驟。此快速熱響應縮短了製程週期時間,提高產能,並改善晶圓均勻性及電性能,且同時提供經濟高效的先進半導體解決方案。
我們已通過多家主要晶圓廠的認證,歡迎您諮詢我們的解決方案。